企業海外參展常見的知識產權風險有哪些？

企業海外參展常見的知識產權風險集中在專利權（發明、實用新型和外觀設計）風險、商標權風險和版權風險三大方面。

參展產品一般融合了最先進的研發成果，因其外型、結構、原理被抄襲而引發的專利侵權糾紛，是展會中發生比例最高的。外觀設計專利、普通的實用新型專利，內行人只要看一眼，就能立刻模仿。大部分的展會查抄都是因專利而起，而且已經由簡單的外觀設計、實用新型專利侵權糾紛向復雜的、不易判斷的發明專利糾紛發展，因此盡量提前做好企業海外知識產權布局。

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